硬涂層等膜厚測量設(shè)備-反射光譜膜厚儀介紹
[原理]
當(dāng)樣品被光照射時(shí),它顯示出取決于膜厚度的*光譜。在薄膜表面反射的光與穿過薄膜并在基板表面反射的光相互干涉。當(dāng)光的相位匹配時(shí),強(qiáng)度增加,當(dāng)光相移時(shí),強(qiáng)度降低。反射計(jì)是一種通過分析該光譜來測量薄膜厚度的方法。
[特點(diǎn)]
? 與 SEM 和觸針式輪廓儀不同,可以非接觸式測量。
? 比橢偏儀更便宜、更容易使用。
[規(guī)格]
模型 | AFW-100W |
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利用 | 一般膜厚 |
設(shè)備配置 | 本體、測量臺(tái)、2支光纖(1.5m)、PC |
測量波長范圍 | 380-1050nm |
膜厚測量范圍 | 100nm~1μm(曲線擬合法) |
1 μm-60 μm (FFT) | |
測量再現(xiàn)性 | 0.2%-1%(視膠片質(zhì)量而定) |
測量光斑直徑 | 約7mm |
光源 | 12V-50W 鹵素 |
測量理論 | 曲線擬合法/FFT法 |
外形尺寸(mm) | 測量臺(tái):W150 x D150 x H115 |
機(jī)身:W230 x D230 x H135 | |
近似重量 | 5.5kg * 不包括電腦 |
效用 | AC100V 50 / 60Hz |
轟天猛將 | 鹵素?zé)?/span> |
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