densoku渦流膜厚儀的原理分析
當(dāng)帶有高頻電流的探頭(探針線圈)靠近金屬時(shí),金屬表面會產(chǎn)生渦流。
這種渦流受高頻磁場的強(qiáng)度和頻率、金屬的導(dǎo)電性、厚度、形狀等影響,穿透深度和大小不同。
然后渦流流動以抵消探頭的高頻磁場,改變探頭的高頻電阻值。
這種高頻電阻變化的幅度一般與膜厚值不成正比。
通過參考內(nèi)置或用戶創(chuàng)建的特性曲線(校準(zhǔn)曲線)轉(zhuǎn)換為薄膜厚度值。
幾乎可以測量金屬上的所有薄膜(鋁、鋅、鉻等上的氧化膜,鐵上的電鍍和涂漆)
或非金屬上的幾乎所有金屬薄膜(塑料上的電鍍等)。
非常適合 檢查,因?yàn)樗梢栽诙虝r(shí)間內(nèi)(1 秒內(nèi))進(jìn)行非破壞性測量。
也可以測量曲面、球面、管道內(nèi)表面(φ12.7 mm或更大)。
測量樹脂上的鋁薄膜。示例:應(yīng)用于汽車前照燈反射器的鋁沉積(從 100 納米起)的質(zhì)量控制。
鋁上氧化鋁膜厚度測量
鐵上鍍鋅的膜厚測量(與熒光X射線膜厚儀結(jié)合使用)
陶瓷鍍鎳的厚度測量
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