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產(chǎn)品資料
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日本thermocera臺式石墨烯/ CNT合成器

產(chǎn)品名稱: 日本thermocera臺式石墨烯/ CNT合成器
產(chǎn)品型號:
產(chǎn)品特點: 日本thermocera臺式石墨烯/ CNT合成器
?型號NanoCVD-8G（用于石墨烯合成）
?型號NanoCVD-8N（用于碳納米管）
無需使用大型制造設備，每批只需30分鐘即可輕松實現(xiàn)石墨烯/ CNT合成。
CVD方法（化學氣相沉積）
CVD法是已經(jīng)為多種目的而建立的穩(wěn)定技術(shù)，并且當考慮將來石墨烯和CNT的大規(guī)模合成時是現(xiàn)實的方法。

日本thermocera臺式石墨烯/ CNT合成器 的詳細介紹

日本thermocera臺式石墨烯/ CNT合成器

 

特性

  • 無需使用大型制造設備即可輕松進行石墨烯/ CNT（SWNT）成膜實驗。
  • 每批僅30分鐘！
  • 冷壁型高效，高精度的過程控制
  • 快速升溫：RT→1100℃/約3分鐘
  • 具有高精度溫度流量控制和出色重現(xiàn)性的高性能機器
  • 操作簡便！5英寸觸摸屏可進行操作和配方管理
  • 多可以創(chuàng)建和保存30個配方，30個合成程序步驟
  • 軟件為標準設備，輸出為CSV文件在PC上記錄數(shù)據(jù)
  • USB電纜連接，在PC端創(chuàng)建配方→可以上傳到設備
 
   
   
 

外型尺寸

 
   
   
 

主要規(guī)格

A.主要規(guī)格 
1.反應室 不銹鋼SUS304泄漏檢查
2.加熱階段 陶瓷制成
3.相應的樣本量 20 x 40毫米
4.加熱加熱器 高純石墨加熱器Max1050℃
5.溫度控制 K型熱電偶標準附件（安裝在加熱臺下）
  
B.過程控制設備規(guī)格 
1.氣體控制 質(zhì)量流量控制器x 3（Ar，H2，CH4）
2.壓力控制 20托FS
3.真空排氣 包括愛德華茲旋轉(zhuǎn)泵RV3（3立方米/小時）
4.操作面板 正面安裝5英寸觸摸屏（歐姆龍制造）
5.風冷 用冷卻風扇冷卻外殼內(nèi)部
6.控制系統(tǒng) PLC自動過程控制
  
C.軟件（標準附件） 
1. nanoCVD軟件 標配（已安裝石墨烯的標準程序）
2.界面 USB 2.0連接
3.設置數(shù) 多30個配方，30個程序創(chuàng)建和保存步驟
  
D.氣體導入連接規(guī)格 
1.工藝氣體 1/4英寸世偉洛克卡套管接口，用于Ar，H2，CH4 x 3
2.載氣 Φ6mm推鎖式管接頭，用于N2或Ar x 1
  
E.安全裝置 
1.過熱 由加熱臺安裝熱電偶控制
2.機殼內(nèi)部過熱 從內(nèi)部溫度開關(guān)
3.氣壓異常 來自質(zhì)量流量控制器
4.真空度降低 來自真空傳感器
  
F.實用程序 
電源 AC200V單相50 / 60Hz 13A
1.工藝氣壓 30psi 200sccm以下
2.載氣壓力 60-80磅/平方英寸
  
G.尺寸/重量 
1.尺寸 405mm（寬）x 415mm（深）x 280mm（高）
2.重量 約27公斤
 
   

nanoCVD-8G（石墨烯）

納米CVD-8N（CNT）


帶旋轉(zhuǎn)泵的nanoCVD-8G

通過CVD化學氣相沉積法在短時間內(nèi)在金屬基底催化劑（Cu，Ni箔等）上合成單層石墨烯膜。nanoCVD-8G的基本操作方案是在石墨平臺上以醉高1100°C的高溫烘烤，并在減壓下供應原料氣體（甲烷），氮氣和氫氣。

◇◆標準設備配置◆◇

  • ●用于石墨烯生成，真空過程控制
  • ●標配旋轉(zhuǎn)泵（選件：TMP，擴散泵或干泵）
  • ● 3個供氣系統(tǒng)（標準）
  • ●樣品臺大1100℃
  • ● K型熱電偶


*以下選項也可滿足其他要求的實驗目的（單獨討論）。

  • ●增加氣體導入口（改變和增加氣體種類）
  • ●增加干泵系統(tǒng)
  • ●增加額外的腔室/加熱臺并改變臺結(jié)構(gòu)

 


使用nanoCVD-8G樣品加熱臺] [nanoCVD-8G后面板]生產(chǎn)的石墨烯的拉曼光譜


日本thermocera臺式石墨烯/ CNT合成器

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